產(chǎn)品推薦
集成電路作為電子產(chǎn)品的核心部件,其質(zhì)量的好壞直接決定了整個電子產(chǎn)品的性能和可靠性。在集成電路制造過程中的硅氧化、光刻、外延、擴(kuò)散和引線蒸發(fā)等諸多工序前,硅片表面的污染物和自身氧化物將通過物理或化學(xué)的方法去除,以獲得符合清潔度要求的硅片,但也會因此而產(chǎn)生大量的廢水。
清洗廢水中的主要污染物為高濃度懸浮顆粒物、酸堿污染及重金屬離子等。清洗后的廢水水質(zhì)幾乎與進(jìn)水水質(zhì)相同,將其作為廢水排放,會造成資源浪費(fèi),增加生產(chǎn)成本。

萊特萊德在傳統(tǒng)的水解酸化+接觸氧化的工藝路線上延伸出廢水近零排放工藝。系統(tǒng)采用MBR膜作為預(yù)處理的保安關(guān)卡,確保預(yù)處理出水水質(zhì)的優(yōu)良穩(wěn)定。膜濃縮系統(tǒng)配合催化氧化技術(shù)及ACF吸附模塊,將被濃縮、富集的COD去除到可接受范圍內(nèi),以確保MVR和膜系統(tǒng)不容易被堵塞,并始終保持高效和穩(wěn)定的運(yùn)行。
萊特萊德集成電路清洗廢水回用系統(tǒng)的工藝優(yōu)勢:
1、MBR膜池維持高濃度的微生物量,處理裝置容積負(fù)荷高,占地面積小。
2、運(yùn)用膜法處理工藝,將生產(chǎn)廢水分類收集、處理,然后再次回用于生產(chǎn)線。
3、系統(tǒng)設(shè)置實(shí)時在線監(jiān)測裝置,確保系統(tǒng)能長期穩(wěn)定運(yùn)行。
萊特萊德采用膜系統(tǒng)進(jìn)行廢水濃縮減量,可實(shí)現(xiàn)98%的收率。有效去除清洗廢水中銅、釩、鎳、鉻等重金屬,處理效果顯著。不僅可實(shí)現(xiàn)高效、快速清洗,增強(qiáng)清洗半導(dǎo)體晶圓的效果,且可降低水資源的浪費(fèi)。