中水回用系統(tǒng) 讓集成電路產(chǎn)業(yè)回歸“清凈”

　　眾所周知，在集成電路生產(chǎn)過程中，如果表面附著顆粒、有機物、金屬等污染物，將會嚴重影響其性能。隨著集成電路板中單元圖案的日益小型化以及集成度的不斷提高，對器件性能、可靠性、產(chǎn)量和使用壽命的要求也越來越高。因此，在集成電路制造過程中的許多工藝中，如硅氧化、光刻、外延、擴散和鉛蒸發(fā)等，為了獲得符合潔凈度要求的硅片，采用物理或化學方法去除硅片表面的污染物及其自身的氧化物，但這也產(chǎn)生了大量的廢水。

　　在集成電路板清洗過程中產(chǎn)生的廢水中，含有纖維物質(zhì)、鉻、鎳、鋅、酸和堿等污染成分，如果不有效處理或處理不當，將對環(huán)境造成嚴重污染。隨著我國“節(jié)能減排”政策的實施，在集成電路行業(yè)主要用水戶的環(huán)評審批中明確表示，除了要求廢水達標排放外，還明確要求廢水必須達到一定的回用率，才能實現(xiàn)循環(huán)經(jīng)濟。

　　萊特萊德的集成電路清洗廢水回用系統(tǒng)工藝合理，運行持久穩(wěn)定，經(jīng)濟效益明顯，環(huán)境風險性能可控，整體布局高度集成，外形美觀。該系統(tǒng)采用Neterfo極限分離和MVR蒸發(fā)相結(jié)合，加上高效的軟化和脫硬系統(tǒng)，降低了膜系統(tǒng)結(jié)垢和污染風險，保證了系統(tǒng)的穩(wěn)定運行。Neterfo極限分離系統(tǒng)簡單的模塊化設(shè)計使其運行更加靈活，能夠?qū)崿F(xiàn)集成電路廢水的回用和零排放處理。集成電路清洗廢水回用系統(tǒng)的不斷創(chuàng)新使得我國對集成電路的需求量不斷增加，集成電路廢水的有效回用符合我國當前節(jié)水環(huán)保的理念。

　　集成電路產(chǎn)業(yè)和其他產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生的含重金屬離子廢水越來越多，成分也越來越復雜，在選擇其處理方法時，應(yīng)考慮水質(zhì)、水量、處理效果和經(jīng)濟投資等因素，綜合運用各種組合工藝和新技術(shù)，因地制宜，使處理效果理想化。